Китай потребуватиме приблизно 15 років для розробки власних передових систем екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV), необхідних для виробництва найсучасніших мікросхем. Таку оцінку висловив Франк Ромунд, керівник напівпровідникового підрозділу німецької Zeiss Group, в ефірі Bloomberg TV. Він зазначив, що ця оцінка є “обґрунтованим припущенням”, хоча точний темп прогресу Пекіна залишається складним для визначення. Zeiss є ексклюзивним постачальником оптики для EUV-систем нідерландської ASML Holding NV, яка, своєю чергою, є єдиним у світі виробником такого критично важливого обладнання для створення чипів, зокрема для систем штучного інтелекту. Ромунд також підкреслив, що Китай вже багато років працює над системами глибокої ультрафіолетової (DUV) літографії і досяг певних успіхів у цій сфері, однак, за його словами, “ми все ще далеко попереду” у порівнянні з провідними світовими технологіями.
Аналіз ситуації на ринку напівпровідників
Виробничі потужності та глобальний попит
Наразі компоненти Zeiss використовуються у виробництві приблизно 80% мікросхем у світі.
Це свідчить про значну залежність глобальної промисловості від продукції компанії. Для задоволення зростаючого світового попиту Zeiss активно розширює свої виробничі потужності, зокрема, шляхом збільшення штаб-квартири в Оберкохені.
Конкурентне середовище та санкційний тиск
Оцінка Ромунда збігається з висновками аналітиків швейцарського банку UBS, які також припускають, що Китаю знадобиться щонайменше десять років для розробки власної технології EUV. Ситуація на ринку напівпровідників перебуває під значним впливом санкційних зусиль Сполучених Штатів, спрямованих на обмеження можливостей Китаю у створенні передових чипів для систем штучного інтелекту.
- У 2018-2019 роках уряд Нідерландів, під тиском США, заблокував експорт передових EUV-систем ASML до Китаю.
- У жовтні 2022 року Вашингтон посилив санкції, заборонивши експорт ключового обладнання всім китайським виробникам логічних мікросхем.
- Наприкінці 2023 та на початку 2024 років обмеження розширилися, і Нідерланди заборонили ASML постачати до КНР навіть частину менш сучасного обладнання на базі DUV літографії.
Ці заходи суттєво впливають на розвиток китайської напівпровідникової промисловості, спонукаючи країну до прискорення розробки власних технологій.
Технологічна залежність та майбутні перспективи
Незважаючи на десятиліття роботи над DUV-системами, Китай все ще відстає від світових лідерів у сфері EUV-літографії. Це створює певну технологічну залежність, яку Пекін прагне подолати. Пошук додаткової інформації щодо поточних досліджень та розробок Китаю в галузі EUV-технологій може надати глибше розуміння їхніх реальних можливостей та термінів досягнення самостійності.
Відповідно до звіту компанії TrendForce, у 2023 році частка китайських виробників у світовому виробництві напівпровідників зросла, проте домінування передових технологій залишається за іноземними компаніями.
Подальший розвиток подій залежатиме від багатьох факторів, включаючи динаміку міжнародних відносин, темпи технологічного прогресу в Китаї, а також інвестиції в науково-дослідні та дослідно-конструкторські роботи.
